DTPでよく使う専門用語をわかりやすく説明いたします。

[ 大日本印刷 次世代半導体量産技術の確立に向けて 米モレキュラーインプリント社のナノインプリント用テンプレート複製装置を導入 ]

大日本印刷(DNP、北島義俊社長)は、米国のモレキュラーインプリント(Molecular mprints, Inc. 本社:米国テキサス州 CEO:Mark Melliar-Smith 以下:MII)のナノインプリント用の型(テンプレート)のレプリカ(複製)を製造する装置「PERFECTATM MR5000」を業界に先駆けて導入した。これにより、ナノインプリントによる次世代半導体製造の2012年の実用化に向けた実証的な開発を進めていく。
 電子回路の線幅が22ナノメートル以下の超微細なレベルにおける次世代半導体の製造技術として、ナノインプリントリソグラフィ技術が注目されている。ナノインプリントリソグラフィは、複雑な光学系の製造方式に比べ、設備負担が小さいというメリットがあるが、シリコンウエハー上に直接テンプレートで型押しして電子回路パターンを転写するため、量産時には定期的にテンプレートを交換する必要があり、そのコストの低減が望まれていた。DNPは、ナノインプリントリソグラフィシステムの開発・販売を行うMIIと戦略的な提携関係を結び、2009年7月からテンプレートの複製技術の開発を共同で進めてきた。今回、DNPは、共同開発の成果を設計に活かしてMIIが業界に先駆けて開発したテンプレート複製装置「PERFECTATM MR5000」の第1号機を上福岡工場(埼玉県)に導入した。
【今回導入した装置によるテンプレート製造工程】
MII独自の製造方式であるJet and FlashTM Imprint Lithography (J-FILTM)に基づき、原版となるマスターテンプレートを用いて、6インチ角で厚さ0.25インチの石英ガラス基板(6025規格)に、原版パターンを転写してレプリカテンプレートを製造する。工程は以下の通り。
@従来のフォトマスク製造に使用する電子ビーム描画装置を用いて回路パターンを石英ガラス基板上に直接描画してマスターテンプレートを作成する。
Aこのマスターテンプレートを、レジストを塗布した石英ガラス基板に押し当て、紫外線を照射してレジストを硬化させた後、マスターテンプレートを外す。
Bこの基板にエッチングを施し、レジストを除去すると、マスターテンプレートのパターンを忠実に転写したレプリカテンプレートが完成する。
 1枚のマスターテンプレートからレプリカテンプレートを複数製造することで、製造コストを低減することができる。また、パターンの微細な凹凸に合わせてレジストの塗布量を制御することで、精度を保つとともにレジストの使用量を最小限に抑えることができる。

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